Кинетика роста анодных оксидных пленок на силицидах кобальта в растворах серной и фтороводородной кислот
DOI:
https://doi.org/10.17072/2223-1838-2022-3-158-169Ключевые слова:
силицид кобальта, фтороводородная кислота, анодная оксидная пленка, потенциостатический, колебания токаАннотация
Изучена кинетика роста анодных оксидных слоев на силицидах кобальта Co2Si и CoSi2 в рас- творе 0,5 моль/л H2SO4, содержащем 0,005 или 0,01 М HF, с использованием хроноамперометрических измере- ний при различных потенциалах формирования оксида. Показано, что кинетика роста оксида согласуется с мо- делью сильного поля. Для Co2Si-электрода в 0,5 моль/л H2SO4+ 0,01 моль/лHF отклики тока на ступенчатые изменения потенциала имеют вид затухающих колебаний. Колебательные процессы объяснены с позиций тео- рии линейных электрических цепей при учете химического взаимодействия оксидной пленки с раствором.Загрузки
Опубликован
2022-10-13
Как цитировать
Шеин, А. Б. ., & Кичигин, В. И. . (2022). Кинетика роста анодных оксидных пленок на силицидах кобальта в растворах серной и фтороводородной кислот. Вестник Пермского университета. Серия «Химия», 12(3), 158–169. https://doi.org/10.17072/2223-1838-2022-3-158-169
Выпуск
Раздел
Физическая химия и электрохимия
