Пассивация дисилицида хрома в кислых средах
DOI:
https://doi.org/10.17072/2223-1838-2021-3-202-211Ключевые слова:
Дисилицид хрома CrSi2, анодное окисление, пассивация, кислый электролит, импедансАннотация
Методами поляризационных, емкостных и импедансных измерений изучено анодное поведение CrSi2-электрода в растворах 0,5 M H2SO4, 0,5 M HClO4, 0,5 M HNO3 и 0,5 M HCl. Сделан вывод, что в процессе анодного окисления при потенциалах от E коррозии до E перепассивации включительно на поверхности дисилицида хрома в исследованных средах формируется оксидная пленка, близкая по составу к SiO2 (с небольшим содержанием оксидов хрома). Присутствие на поверхности силицида данной пленки обусловливает его высокое химическое сопротивление в изученных растворах. Рассчитана толщина оксидной пленки на CrSi2 в зависимости от потенциала и состава электролита. Определена постоянная роста оксидной пленки.Загрузки
Опубликован
2021-10-07
Как цитировать
Шадрин, К. В., & Пантелеева, В. В. (2021). Пассивация дисилицида хрома в кислых средах. Вестник Пермского университета. Серия «Химия», 11(3), 202–211. https://doi.org/10.17072/2223-1838-2021-3-202-211
Выпуск
Раздел
Физическая химия и электрохимия